反应离子束蚀刻机：
配备Vecco条形离子源，可以实现大面积扫描蚀刻，常用气体Ar，CF4，CHF3，SF6。
负责人：盛斌老师
版权所有 © 2017 上海理工大学光电信息与计算机工程学院 张大伟教授课题组
地址：上海市杨浦区军工路516号 邮编：200093
